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美方在國際空間站進行光刻實驗?想利用Astrileux新EUV涂層捕獲太陽EUV輻射

2020-06-04
來源:與非網
關鍵詞: EUV 光刻技術 Astrileux

與非網 6 月 4 日訊,美國太空計劃創造了歷史,SpaceX DM-2 龍飛船(Crew Dragon)上的 NASA 宇航員羅伯特·本肯(Robert Behnken)和格拉斯·赫利(Douglas Hurley)抵達國際空間站(ISS),這是商業航天器首次將宇航員運送到國際空間站。

 

國際空間站是企業、政府和大學的研究實驗室。一段時間以來,國際空間站的宇航員已在該實驗室為各個組織進行了大量創新實驗。2019 年 11 月,諾斯羅普·格魯曼公司的天鵝座(Cygnus)飛船從弗吉尼亞州的瓦羅普斯飛行研究所 (Wallops Flight Facility)發射升空。

 

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航天器攜帶來自 Astrileux( 一家為制造 7nm 以下集成電路提供光學技術的公司)的有效載荷進入國際空間站。有效載荷是由太空科學發展中心(CASIS)和納米機架合作進行的此外,該航天器還載有 20 多種其他有效載荷。

 

國際空間站的宇航員利用來自 Astrileux 的有效載荷,在國際空間站的外部平臺上進行了光刻實驗。實驗圍繞 Astrileux 的新 EUV 光學鍍膜技術進行,目的是確定是否有可能使用 Astrileux 的 EUV 涂層捕獲太陽 EUV 輻射。

 

這些材料構成了波長為 13.5nm 的 EUV 光刻工具的光學器件和反射鏡的基礎。實驗證明,能用 Astrileux 的 EUV 涂層捕獲太陽 EUV 輻射。有朝一日,來自 Astrileux 的材料能夠成為一類新型的太空儀器。它還為未來基于 EUV 的空間光刻技術奠定了基礎,該技術使用太陽輻射的能量作為光源。國際空間站最初于 2000 年投入使用,它是一個模塊化的太空實驗室,是美國、俄羅斯、日本、歐洲和加拿大的航空航天機構之間的合作。

 

很難想象一個有大型 EUV 設備的工廠將在國際空間站甚至在月球或火星上建造。但是在將來,在太空中發展小型晶圓廠或微型晶圓廠是可行的。為此,航天器或太空殖民地將需要 3D 打印機和 fab 工具,以及對晶片進行圖形化(pattern)的光刻技術。這就是需要與 Astrileux、太空科學發展中心以及納米艙(NanoRacks)合作的地方。太空科學發展中心是國際空間站的美國國家實驗室(美國政府資助的實驗室)的管理者。

 

為了進行實驗,Astrileux 設計了有效載荷,并合并到納米艙的立方體衛星中。立方體衛星包括 Astrileux 有效載荷的內部和外部組件。在實驗中,Astrileux 的材料成功地展示了 EUV 的波長范圍(10nm-20nm)。

 

Jaiswal 說:“ Astrileux 創造了可以在極端輻射環境中生存的新型 EUV 光學涂層,并可以有效捕獲 13.5nm 和其他 EUV 波長的 EUV 輻射?!庇谐蝗?,這些材料也會有新的應用。首先,它可以為能夠捕獲 EUV 輻射的新型空間儀器鋪平道路。

 

Jaiswal 說:“ Astrileux 的新型 EUV 光學器件為空間探索、太陽輻射成像、望遠鏡、星系統和太空系統中使用的光學系統的新設計奠定了基礎?!?/p>

 

傳統的 EUV 光學器件可能需要花費 100 天以上的時間來對單個晶片進行圖形化,而 Astrileux 的光學器件最終可以將圖形化時間減少到不到 10 個小時。反過來,這使得在空間中的小型社區中進行晶圓圖形化和制造成為可行的概念。

 

同時,在地球上,一些鑄造廠已將 EUV 光刻技術投入 7nm 和 5nm 的生產,并進行了 3nm 的研發。Astrileux 的新型 EUV 涂層也是生產工廠中 EUV 光刻掃描儀的理想選擇。


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